【大纪元2022年12月16日讯】（大纪元记者夏雨综合报导）周四（12月15日），美国商务部将36家中共科技企业和实体列入贸易黑名单“实体清单”，其中包括上海微电子装备集团有限公司（简称上海微电）。因为上海微电是中共光刻机产业的龙头企业，美方此举将重创中共先进光刻机产业，乃至芯片自给自足野心。
美国商务部将这些公司列入实体名单（Entity List），意味着任何试图向它们提供美国技术的公司和个人都需要获得美国政府的许可，且这种许可很难获得。在这些上到新黑名单的公司中，有21家还受到进一步限制——外国直接产品规则（FDPR）——禁止外国公司向中国实体销售采用美国技术或设备生产的商品，其中包括上海微电。
今年2月，上海微电被美国商务部纳入出口观察清单，而周四被正式列入出口管制清单。美方认为上海微电支持中共军事现代化。
美国还制裁了上海集成电路研发中心，这是一家由上海市政府支持的公司，致力于在不使用美国技术情况下制造国产芯片。
缺先进光刻机 中共无法制造先进芯片
上海微电子，更广为人知的名称是SMEE，是中国唯一一家能够生产用于高端半导体开发的先进光刻设备的中国公司，在中共芯片自给自足计划中占据重要地位。
中国目前无法制造先进的芯片，例如用于最新智能手机的芯片，主要是因为中国无法生产最先进的光刻机，而该领域目前由荷兰公司阿斯麦（ASML Holding）主导。
虽然SMEE是中国唯一的光刻机制造商，但其设备只能生产90纳米节点的芯片，离尖端光刻机还很远。
SMEE今年年初已经交付了首台2.5至3维先进封装光刻机，但分析人士称，封装光刻机用于晶圆封装，属于芯片制造的后道工序。相比之下，晶圆制造是一个前端过程，需要更复杂的机器。
中国芯谋咨询（ICwise）研究总监宋长庚此前对《南华早报》说，“我们目前卡在40纳米以下分辨率的晶圆制造光刻机，目前还没有取得明显成果。”
“如果中国（中共）想在半导体行业达到一定程度的自力更生……中国工具供应商需要为代工厂开发光刻工具，技术需要足够好才能与ASML、佳能和尼康竞争。”台湾Isaiah Research副总裁Lucy Chen今年2月对《南华早报》说。
缺乏外国供应商协助 中共自给自足几无可能
阿斯麦生产的光刻机对于生产最先进芯片至关重要，该公司在该领域的技术优势是目前世界上任何一家公司都无法比拟的，也是全球唯一一家能够供应7奈米及以下晶片所需的EUV（极紫外）光刻机的厂商。美国最新制裁限制SMEE获得先进技术和产品，使得该公司更难以提升光刻机生产水平。
据悉，在2021年的全球光刻机市场，荷兰ASML独占了79.4%的市场份额，尼康与佳能分别占据10.4%和10.2%的市场份额。和ASML相比，尼康处于较大劣势，其核心能力集中在最低端的UV（i－line）光刻机领域以及次高端的DUV领域。
由于美国禁令，ASML从2018年起就被禁止向中国出口EUV设备，美国担忧中共取得最先进半导体技术的话，可能会被用于军事用途，打造出更具威胁性的武器装备，今年10月拜登政府新半导体禁令出炉后，ASML也要求旗下的美籍员工禁止为中国客户提供服务。
但是中国公司凭借目前能够取得的深紫外光刻机（DUV）设备，仍然一步步推进半导体技术。
美国一直在游说其合作伙伴，包括日本和荷兰，收紧对中国出口用于制造半导体的设备。彭博社不久前报导，荷兰政府有意对半导体制造设备出口至中国祭出新的管制。
虽然荷兰还没有做出最终决定，目前披露的资讯显示，荷兰考虑禁止向中国销售能够用于14纳米及更先进制程的半导体设备，符合美国对逻辑芯片制造设备的限制，也代表ASML的浸润式微影设备恐怕无法出口至中国。
对中共芯片产业来说，荷兰参与制裁毫无疑问是毁灭性的打击，缺乏ASML等美国以外供应商的设备，中共芯片自给自足几乎是不可能的任务。
即使先不谈技术先进与否的问题，中国半导体设备产业规模都太小，研究机构伯恩斯坦（Bernstein）资料显示，直到2021年为止，中国国产半导体设备最多只能满足国内12%的需求，其余都得依赖外国供应商。
伯恩斯坦半导体分析师Mark Li认为，中共离半导体的自给自足还差得远，假如缺乏外国供应商的协助，他们不太可能打造出能够顺利运行的产线。
责任编辑：叶紫微#